「EUVリソグラフィー量産導入」で恩恵を受ける企業はここ！ マスク／ブランクス分野では日系企業が多数

半導体製造プロセスにおいてEUV（極端紫外線）リソグラフィーが、いよいよ2018年末～19年にかけて量産ラインで適用されることになりそうだ。台湾TSMCが先陣を切るかたちで、ロジック分野に適用される見通しだが、装置・材料分野に目を移せば、日系メーカーにも恩恵を受ける企業が多く存在する。